電子光學行業生產用水，如半導體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模集成電路等生產用水需求。既將水中的導電介質幾乎完全去除，水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水稱為超純水,我國電子工業部將電子工業用水劃分為四級用水標準（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），科利達環保采用采用當今先進的雙級反滲透純化水處理技術＋EDI模塊化設計,原水通過一、二級反滲透系統去除各種鹽份及雜質,再經過EDI系統對反滲透產水高度凈化，使水質提高。此電子行業EDI超純水設備不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，系統工藝先進、水質穩定、自動化程度高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環保、維護方便,處理后可生產出水電阻率可達到18.2兆歐及以上的超純水。
一、 分類標記：
I級電子級水標記為：EW-I；
II級電子級水標記為：EW-Ⅱ；
III級電子級水標記為：EW-Ⅲ；
Ⅳ級電子級水標記為：EW-Ⅳ；
二、 級別指標：
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級別指標 |
EW-I |
EW-Ⅱ |
EW-Ⅲ |
EW-Ⅳ |
|
電阻率 MΩ﹒cm(25℃) |
18以上 (95N時間) 不低于17 |
15 (95N時間) 不低于13 |
12.0
|
0.5
|
|
全硅，值，μg/L |
2 |
10 |
50 |
1000 |
|
>1μm微粒數，值，個/mL |
0.01 |
5 |
10 |
500 |
|
細菌個數，值，個/mL |
0.01 |
0.1 |
10 |
100 |
|
銅,值，μg /L |
0.2 |
1 |
2 |
500 |
|
鋅，值，ug/L |
0.2 |
1 |
5 |
500 |
|
鎳，值．μg/L |
0.1 |
1 |
2 |
500 |
|
鈉．值，μg /L |
0.5 |
2 |
5 |
1000 |
|
鉀，值．ug/L |
0.5 |
2 |
5 |
500 |
|
氯，值．ug/L |
l |
l |
10 |
1000 |
|
硝酸根，值，ug/L |
1 |
1 |
5 |
500 |
|
磷酸根，值．ug/L |
1 |
1 |
5 |
500 |
|
硫酸根，值, ug/L |
1 |
1 |
5 |
500 |
|
總有機碳，值，ug/L |
20 |
100 |
200 |
1000 |
三、 常用工藝：
(1)預處理+一級反滲透+二級反滲透
(2)預處理+一級反滲透+EDI設備
(3)預處理+一級反滲透+二級反滲透+EDI設備+核能混床
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